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速度200M/s 美光量產(chǎn)34納米工藝芯片

http://www.yibo1263.com 2009-7-3 8:43:15  來源:東北IT網(wǎng)  編輯:東三省
 

美光公司近日宣布,他們已經(jīng)開始應(yīng)用34nm新制程,批量生產(chǎn)16Gb和32Gb容量的MLC NAND閃存顆粒。

美光34納米MLC閃存芯片

新工藝最明顯的優(yōu)勢就在于芯片面積的縮小,以及隨之帶來的成本下降。美光表示,34nm 16Gb MLC NAND顆粒的面積僅有84平方毫米,而32Gb版本則比美光的第一代32Gb芯片面積小17%。新的34nm 16Gb/32Gb MLC顆粒均支持ONFI 2.1接口,最高傳輸速度可到200MB/s。相比之下,傳統(tǒng)的SLC顆粒也不過40MB/s。因此,這樣的新顆粒再搭配多路讀寫技術(shù),制造出的固態(tài)硬盤將直指SATA 3Gbps甚至SATA 6Gbps標(biāo)準(zhǔn)的速度極限。

美光34納米MLC閃存芯片晶圓

另外,美光旗下的存儲(chǔ)卡企業(yè)Lexar公司也同時(shí)宣布,已經(jīng)將34nm工藝閃存應(yīng)用在自己的Platinum II系列32GB SDHC卡,以及16GB MicroSDHC卡中。而到今年9月底,Lexar的全系列SD/SDHC/MicroSDHC/CF/MS/M2存儲(chǔ)卡和JumpDrive系列閃盤都將使用34nm工藝閃存。

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